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C.氧化用高锰酸钾从镀镍电解液中除去有机杂质,一方面是高锰酸钾在pH3时,在一定温度下有强烈的氧化作用;另一方面生成的二氧化锰沉淀具有强大的吸附能力,经过处理后的沉积层弯曲强度很大,不含杂质的溶液中所得沉积层弯曲强度仅为它的4%,用氢氧化铁处理后的沉积层的弯曲强度为它的13%。根据沉积层的弯曲强度来看,电解液中的有机杂质的除去程度用高锰酸钾氧化的效果要彻底得多,但不能说有机杂质已完全除尽。

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                                 ————文章摘自《镀镍工艺基础》,侵删

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