DW-1——最新一代高效镀铬添加剂 (二）
⑷ 镀层结晶细致、光亮，分散能力和深度能力佳，结合力好 ⑸ 阴极电流密度宽：20～90A/dm2；镀层均匀，尖端放电减弱 ⑹ 无低阴极电流密度区腐蚀，不易产生铁等金属杂质 ⑺ 析氢量减少，铬雾排出量亦减少，铬酐利用率高 ⑻ 电流效率提高，生产效率亦提高，节能降耗明显 ⑼ 无阳极腐蚀，无需特殊阳极；设备与普通镀铬相同，由于添加阳极保护剂，所以不腐蚀阳极，同时三价铬不升高。 ⑽ 镀液稳定，杂质容忍量较高；维护方便，操作简单 ⑾ 产品质量稳定可靠，易于控制 …… 二、沉积速度 沉积速度比普通镀铬快1.5～2倍(普通镀铬电流效率只有13%左右)
阴极电流 密度 (A/dm2 ) 单面沉积速度 (um/hour) 阴极电流效率 (≈%) 30 25～30 19～22 40 37～41 20～23 50 45～54 21～24 60 60～70 22～25 70 72～85 23～26 80 85～98 24～27
